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半導體制程(支撐)材料

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高純氫

更新時間:2020-07-04 點擊數(shù):2946

高純氫(H2)是一種無色無臭的可燃氣體,在空氣中的可燃極限為4.1%~74.1%(體積濃度),其自燃溫度為571.2℃,沸點為-252.8℃,熔點為-259.2℃。常溫下,氫氣的性質(zhì)很穩(wěn)定,不容易跟其它物質(zhì)發(fā)生化學反應。高純氫在電子微芯片等行業(yè)中有著非常重要的應用,在一些電子材料的生長與襯底的制備、氧化工藝、外延工藝以及化學氣相沉積技術中,均采用氫氣作為反應氣、還原氣或保護氣。

產(chǎn)品指標

產(chǎn)品用途:

氫是主要的工業(yè)原料,也是重要的工業(yè)氣體和特種氣體。在電子微芯片的制造中,需要采用氫氣作為反應氣、還原氣或保護氣。除此之外,氫氣在石油化工、冶金工業(yè)、食品加工、浮法玻璃、精細有機合成、航空航天等方面有著廣泛的應用。同時,氫也是一種理想清潔的二次能源,航天工業(yè)中更是使用液氫作為燃料。    

包裝、貯存:

高純氫充裝在鋼質(zhì)無縫氣瓶中,鋼瓶規(guī)格為10L、40L。具體包裝規(guī)格可根據(jù)客戶需求定制更改。高純氫儲存于陰涼、通風的庫房中,遠離火種、熱源。庫房采用防爆型照明、通風設施,庫溫不超過30 ℃,相對濕度不超過80%。



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